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紫外光uv光解除臭设备利用光学原理设计了*的装置处理工艺,使空间内得以zui大限度地利用紫外线光催化反应,使杀菌效果成倍提高。纳米光氢离子cho91g净化装置。 无任何机械动作,无噪音,无需专人管理和日常维护,只需作定期检查,设备风阻低30pa,可节约大量排风动力能耗。
查看详细介绍橡胶厂紫外光催化氧化设备采用先进的氧化技术,突破单一体系的反应局限,在整个反应体系中,两种氧化能力*的氧化剂-o3和·oh参与反应及185nm高能量紫外线直接裂解废气,使得脱臭效果更佳,恶臭气体矿化程度更高,可无害化排放,无二次污染。
查看详细介绍防爆型紫外光废气处理设备能高效去除挥发性有机物(voc)、无机物、硫化氢、氨气、硫醇类等主要污染物,以及各种恶臭味,脱臭效率zui高可达99%以上,脱臭效果大大超过国家1993年颁布的恶臭污染物排放标准(gb14554-93)和1996年颁布的《大气污染物综合排放标准》(gb16297-1996)。
查看详细介绍印染厂紫外光催化氧化设备无任何机械动作,无噪音,无需专人管理和日常维护,只需作定期检查,本设备能耗低,(每处理1000立方米/小时,仅耗电约0.2度电能),设备风阻极低<50pa,可节约大量排风动力能耗。
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